直接成像數字曝光技術“打印”創新未來

2016-07-11 17:03 9167

近日，TI的DLP(R)高速數字微鏡器件（DMD）為那些對精度要求達到微米級的直接成像數字曝光開發人員提供了一個強大工具，從而能夠在批量生產情況下實現快速曝光，以及更低的運營成本。

北京2016年7月11日電 /美通社/ -- 自18世紀在德國被發明以來，被稱為“數字曝光”的打印方法經歷了一段很長的發展歷程。今天，數字曝光可以在多種表面上打印文字和圖片，包括書本和T恤。近日，TI的DLP^®高速數字微鏡器件（DMD）為那些對精度要求達到微米級的直接成像數字曝光開發人員提供了一個強大工具，從而能夠在批量生產情況下實現快速曝光，以及更低的運營成本。

這項打印技術的變化也不斷地激發出新的創新。被稱為“直接成像數字曝光”的技術被設計人員用來快速、輕松地“打印”多種電子產品，所使用的方法是將感光材料暴露在紫外光（UV）之下。

現在，直接成像數字曝光可被用于制作印刷電路板（PCB）、球柵陣列（BGA）、芯片尺寸封裝（CSP）、平板顯示、實時條形碼標刻，以及計算機直接制版印刷 -- 這項打印工藝可直接將一副數字圖像從計算機發送至一塊印板上。

與傳統數字曝光技術相比，直接成像數字曝光的優勢有很多，其中包括更高的材料靈活性、更低的成本和更快的打印速度。

由TI實現的直接成像數字曝光

通過使用可編程光控制的 DLP 技術，開發人員可以將圖形直接曝光在光阻膠片上，而無需接觸掩膜，這樣做降低了材料成本，提高了生產率，并且可實現圖形的快速變化，使得這項技術非常適用于最小外形尺寸需要兩次曝光的情況。

TI 高度靈活的芯片組架構還提供多系統控制和連通性選項，諸如針對電機同步、傳感器和其它外設的觸發器。

觀看視頻了解DLP無掩膜數字曝光是如何降低成本并增加PCB可靠性的

進一步了解數字曝光

我們有多款適用于數字曝光應用的 DLP 數字微鏡器件。DLP6500FLQ、DLP7000、DLP9000、和 DLP9500 芯片系列全都支持低至400納米的波長。最近，我們在ti.com上推出了 DLP7000UV 和 DLP9500UV，以支持低至363納米的波長。

TI 提供針對所有這些 DMD 的評估模塊產品庫，以及針對數字曝光的輔助性 TI Designs參考設計，其中包括電路原理圖、布局布線文件、物料清單和一份測試報告。

TI Design 特有一塊系統級的 DLP 開發板，由于集成了 DLP9000X -- 由超過4百萬個微鏡制成的、擁有較高分辨率的 DLP 數字微鏡器件，該開發板具有較大的數據吞吐量；這塊開發板還裝備有我們速度較快的數字控制器，即支持每秒高達60千兆像素數據速率的 DLPC910。DLPC910數字控制器還為設計人員提供了高級像素控制，在全幀輸入功能的基礎上，支持隨機行尋址。

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消息來源：德州儀器半導體技術（上海）有限公司